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用途特點(diǎn)：
高低溫循環(huán)裝置 能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍廣，適用于制藥、化工、生物、實(shí)驗(yàn)室行業(yè)中連接反應(yīng)釜進(jìn)行制冷、加熱反應(yīng)的設(shè)備，特別是是高低溫體機(jī)SUNDI系列主要功能應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜進(jìn)行升降溫、恒溫控制。
分為三個(gè)系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)，三個(gè)系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用。
高低溫循環(huán)裝置適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內(nèi)物料溫度，可以選擇程序控制模式，導(dǎo)熱介質(zhì)和物料的溫差也可設(shè)定，整個(gè)高低溫體機(jī)系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時(shí)不會(huì)產(chǎn)生油霧，低溫時(shí)不會(huì)吸收水分，系統(tǒng)中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導(dǎo)熱介質(zhì)熱脹冷縮。
高低溫循環(huán)裝置主要用途：
用于雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。
1、化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測(cè)試中的應(yīng)用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。